實驗室用高壓反應釜

描述：爆破片改為比例卸荷閥，采用直角高壓針閥，閥門開口垂直于釜蓋，液體取樣殘留少，標配比例卸荷閥，壓力泄放可以重復使用，泄放壓力可調，冷卻塔設計，保證關鍵部件在高溫使用情況下無超溫之憂，保證配件使用壽命。上海巖征儀器，專業生產各種實驗室設備、實驗室用高壓反應釜、全自動反應釜等，歡迎前來咨詢。

產品咨詢聯系我們

詳細介紹

品牌	其他品牌	產地類別	國產

巖征儀器實驗室用高壓反應釜是由：特制光源，不銹鋼釜體以及控制系統組成。用于新能源，環境、新藥研發領域的高溫高壓光化學催化、合成、降解的中試及放大生產。

巖征儀器實驗室用高壓反應釜技術特點：

1、光源可按照客戶要求選擇，采用LCD10.1英吋液晶觸摸控制器，光源光電參數及光化學反應的溫度，攪拌等參數實時數字顯示在屏幕上。

2、光源與釜體連接部分采用技術保證耐壓氣密性，國內*。

3、更專業的光化學釜體生產工藝：釜體包含壓力表、防爆裝置、進氣閥門、取樣閥門，溫度測溫探桿，耐壓光源插入口等，在保證您的生產安全前提下更方便您的操作。

4、采用浸入式光源設計，物料與光源充分接觸，光化學反應釜配備大功率攪拌電機帶動錨式攪拌槳，讓物料能均勻吸收光子能量。

巖征儀器 光化學配置表：

型號	YZ-GHX-HP系列
光源類型	低壓汞燈,高壓汞燈,氙氣燈,鈉燈,led燈,準分子燈
光源冷卻形式	強制水冷，采用強制導流夾套式光源冷阱
容積	5-500L
設計參數	設計壓力1mpa,設計溫度：250℃
攪拌設計	采用磁力耦合機械式攪拌，零泄漏，攪拌轉速：0-750轉/分
控制系統	一體式控制機柜，上部控制光源，下部分控制反應釜溫度，攪拌
光源冷卻設備	大功率激光冷水機，給光源及冷凝回流提供降溫保證